新方法可能制造出更细微的芯片纹路

2009年04月11日 12:10 次阅读 稿源: 条评论
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MIT的研究人员已经找到一种全新的方式,只需要一种能在透明与非透明状态之间转换的材料,用特定波长的光照射,就能在微型芯片上获得极细的线条。
这种材料并不新奇,但研究人员找到了一种全新的方法来利用这一特性,用于构造出极其细微线条的透明蒙板,用这个蒙板可以在材质上创建出对应的细微线条。制造这样细微的线条对于很多新技术而言是关键的,从不断追求往一块芯片上加入更多元件的芯片制造业,到日渐显露头角的纳米技术。但这些技术都面临一个极限,即他们都要依赖于光的波长,大多数技术无法获得比光波长更小尺度的图样,而这个新技术则弥补了这一点。

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问题的关键在于使用干涉图样,不同波长的相干光在不同位置会彼此增强或抵消。研究者将这种对光反应变色的材料,材料改变颜色后,便会对对应的光线透明。曝光时用一对图样的蒙板,各自采用不同波长的光同时进行曝光。当一种波长的亮线与另一种波长的暗线对应交叠时,极细小的线条就产生了。这一层材料便可作为蒙板,用第一种波长的光线照明,就像用负片在相纸上冲洗出照片一样,在底层材料上留下图样。

这个研究是由电子学研究实验室工程师Rajesh Menon和化学系研究生Trisha Andrew以及电子工程与计算机科学系的研究生Hsin-Yu共同完成的,研究的论文已经发表在4月10日的《科学》杂志上。

这项了不起的新技术,研究人员成为吸光率调制,使得制造出所用光线波长十分之一粗细的线条成为可能。成功实现这一过程的部分关键在于找到合适的光敏材料,其在最初曝光之后透明与不透明区域都应保持稳定。

使用这种方法,研究团队制造出了36纳米宽的线条,并宣称他们还可以制造出许多同样大小间隔的线条。

Menon说,这种技术会对芯片制造带来显著的冲击,也会使依赖于纳米尺度技术的新兴领域的研究工作成为可能,包括纳米光子学,纳米流体力学,纳米电子学以及纳米生物系统。

Menon已经成立一个公司,以继续这项技术的研发,他期望能在5年内实现商用化。

但这并不是这一技术唯一的潜在运用,Menon称他的团队正在寻求这套系统在成像系统中的可能运用,有可能使纳米尺度的新型显微镜成为可能,这在生物学与材料科学中将有巨大应用前景。同时,他也在寻求使用这种技术把类似图案的尺度降低到单个分子的大小。

原文:MIT 
译文:AKFish.cn

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