三星扩大部署EUV光刻工艺:新老内存齐上马、领先对手两年

2020年12月04日 18:33 次阅读 稿源:快科技 条评论

继SK海力士日前宣布在M14和建设中的M16工厂均引入EUV光刻机后,三星也坐不住了。按照三星的说法,自2014年以来,EUV光刻参与的晶圆超过了400万片,公司积累了丰富的经验,也比其它厂商掌握更多诀窍,领先对手1到2年。

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据悉,三星的1z nm DRAM第三代内存已经用上了一层EUV,第四代1a nm将增加到4层。EUV光刻机的参与可以减少多重曝光工艺,提供工艺精度,从而可以减少生产时间、降低成本,并提高性能。

尽管SK海力士、美光等也在尝试EUV,但层数过少对效率提升并不明显,也就是单位成本高,毕竟EUV光刻机买一台要10亿元。三星这方面倒是有优势,因为自己还有晶圆厂,“东方不亮西方亮”光刻机的利用率很高。

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