台积电宣布N4P高性能工艺:4nm?其实又是5nm

台积电今天宣布了一个新的制程工艺节点“N4P”——看起来是4nm,但其实是5nm的又一个版本,确切地说是N5、N5P、N4之后的第四个版本、第三个升级版,注重高性能。台积电称,N4P工艺相比最初的N5工艺可提升11%的性能,或者提升22%的能效、6%的晶体管密度,而对比N4可将性能提升6.6%。

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此外,N4P工艺会重复使用多层遮罩,因此可大大降低工艺复杂度,加快晶圆生产速度。

台积电称,N4P工艺是为客户5nm工艺平台产品升级准备的,不但可以最大化挖掘投资价值,还可以更快、更高效地升级N5工艺产品。

台积电表示,第一款基于N4P工艺的产品预计2022年下半年流片。

台积电此前披露,N3 3nm工艺将在今年内风险性试产,2022年下半年大规模量产,2023年第一季度获得实际收入,N3E 2024年量产,N2 2nm 2025年量产。

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