IMEC公布未来技术蓝图 半导体10年内进入埃米时代

2021年12月03日 16:53 次阅读 稿源:快科技 条评论

当前,量产的晶体管已经进入4nm尺度,3nm研发也已经冻结进入试产。在11月于日本举办的线上ITF大会上,半导体行业大脑imec(比利时微电子研究中心)公布了未来十年的技术蓝图。据悉,2025年后,晶体管微缩化进入埃米尺度(Å,angstrom,1埃 = 0.1纳米),时间节点的规划是,2025年A14(14Å=1.4纳米)、2027年为A10(10Å=1nm)、2029年为A7(7Å=0.7纳米)。

微观晶体管结构层面,imec试图在14Å节点使用Forksheet结构(p型和n型纳米片晶体管成对排列,类似于用餐的叉子),10Å节点试图采用CEFT结构,1纳米(10Å)以下计划采用原子形状的沟道,依赖Mo(钼)、W(钨)、X为硫、Se硒、Te(碲)等2D材料和High NA(高数值孔径)EUV光刻机来实现。

说到High NA EUV光刻机(0.55NA),一号原型机(EXE:5000)将在2023年由ASML提供给imec的联合实验室,2026年量产,从而服务1nm及更先进的节点。

访问:

京东商城

对文章打分

IMEC公布未来技术蓝图 半导体10年内进入埃米时代

2 (25%)
已有 条意见

    最新资讯

    加载中...

    今日最热

    加载中...

    热门评论

      Top 10

      招聘


      Advertisment ad adsense googles cpro.baidu.com
      created by ceallan