单价超19亿 Intel下单订购首台ASML最先进EUV光刻机

1月19日最新消息,Intel宣布第一个下单订购了ASML TWINSCAN EXE:5200光刻机。TWINSCAN EXE:5200是ASML的高NA(数值孔径)EUV光刻机,其吞吐量超每小时220片晶圆(wph)。从路线图来看,EXE:5200预计最快2024年底投入使用,2025年开始大规模应用于先进芯片的生产。

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事实上,4年前,ASML的第一代高NA(0.55 NA)光刻机EXE:5000,Intel就是第一个下单的公司。不过当前的7nm、5nm芯片还并非是其生产,而是0.33NA EUV光刻机。

和0.33NA光刻机相比,0.55NA的分辨率从13nm升级到8nm,可以更快更好地曝光更复杂的集成电路图案,突破0.33NA单次构图32nm到30nm间距的极限。

外界预计,第一代高NA光刻机EXE:5000会率先用于3nm节点,至于EXE:5200,按照Intel的制程路线图,2025年至少是20A或者18A(A代表埃米),也就是2nm和1.8nm或者20埃米和18埃米。

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此前,ASML发言人曾对媒体透露,更高的光刻分辨率将允许芯片缩小1.7倍、同时密度增加2.9倍。未来比3nm更先进的工艺,将极度依赖高NA EUV光刻机。

最后不得不说,Intel能抢到第一单,除了和ASML一致紧密合作外,当然也是因为“钞能力”,Gartner分析师Alan Priestley称,0.55NA下一代EUV光刻机单价将翻番到3亿美元(约合19亿元人民币)。

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