ASML新一代EUV光刻机飙升至27亿元

2022年05月22日 15:15 次阅读 稿源:集微网 条评论

据路透社报道,半导体设备巨头ASML的新一代High-NA EUV设备订价约4亿美元,折合27亿人民币。据悉该设备精密度更高、所使用的零部件更多,机型比上一代大出30%,大小如同双层巴士。

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为克服技术挑战,ASML正与全球最大的微电子研发机构IMEC共同建立测试实验室。据悉,ASML原型机将在2023年上半年完成。

ASML对外表示,2021年第四季度已收到5个预定High-NA EUV的订单。


荷兰的ASML公司是全球光刻机领域的翘楚,也是全球唯一一家极紫外光微影技术光刻机的公司。ASML推进的High-NA 曝光技术正是延续摩尔定律的关键所在。

芯片先进工艺实现的关键在于制造晶圆的半导体设备,光刻机是半导体设备中技术难度最高、成本最大的设备。当前半导体的工艺制程已经推进到3纳米,台积电正在向1纳米冲击。而要实现这些先进工艺,则离不开高端的光刻机。

在全球代工领域,台积电、三星是全球唯二的两家在先进工艺制程较量的半导体制造巨头,ASML高端光刻机也是双方今后一比高下的武器。不难判断,台积电、三星是ASML该高端光刻机的首批客户。

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