三星与ASML达协议 采购下一代 High-NA EUV曝光机

2022年06月30日 10:44 次阅读 稿源:鉅亨網 条评论

韩媒《BusinessKorea》周四 (30 日) 报导,三星电子和 ASML 就引进今年生产的 EUV 曝光机和明年推出高数值孔径极紫外光 High-NA EUV 曝光机达成采购协议。

访问:

阿里云服务器精选特惠:1核1G云服务器低至0.9元/月

访问购买页面:

SAMSUNG - 三星旗舰店

三星电子副董事长李在镕本月初赴欧洲之行,他在 6 月 14 日前往 ASML 位于荷兰 Veldhoven 的总部拜访执行长 Peter Wennink ,两家公司签署一项协议,将引进今年生产的 EUV 曝光机和计划于明年推出高数值孔径极紫外光 High-NA EUV 曝光机。

High-NA EUV 曝光机设备精密度更高、设计零件更多,是延续摩尔定律的关键,推动 2 奈米以下制程电晶体微缩,估计每台要价 4 亿美元 (5000 亿韩元)。

ASML (ASML-US) 今年只能生产 50 台 EUV 设备,交货周期为 1 年又 6 个月,ASML 有限的生产能力和较长的交货时间正加剧各大晶圆代工厂订购 High-NA EUV 曝光机的竞争。

李在镕此次欧洲行就是要积极确保稳定供应,期许在先进制程上追赶台积电,抢坐市占第一宝座。

英特尔 (INTC-US) 早前已率先与 ASML 签约采购 5 台这款新设备,还宣称 2024 年初就能生产 20A (2 奈米)、2024 年下半更能生产 18A (1.8 奈米)。台积电也在 6 月 16 日美国矽谷研讨会上表示,台积电 (2330-TW)(TSM-US) 会在 2024 年拥有 ASML 次世代最先进的曝光机。

该报导指出,High-NA EUV 曝光机应用于其晶片制程的具体时间尚未确定,但考虑到交货时间,预计三星将从 2024 年开始实际使用这项设备。

近期一些市场观察人士呼吁韩国政府对半导体业提供更多支持,前三星电子半导体研究所所长 Kim Kwang-gyo 近期表示韩国政府对半导体产业过于轻视,若不果断扩大投资和解决半导体产业问题,韩国半导体业会面临死路一条的局面。

三星电子已获得 ASML 今年 EUV 曝光机产能中的 18 台。这意味三星仅在 EUV 曝光机上就将投资超过 4 兆韩元。一位业内人士表示,如果三星采购 10 台 High-NA EUV 曝光机,三星将花费超过 5 兆韩元,政府有必要扩大支持,以提高韩国国家产业竞争力。

对文章打分

三星与ASML达协议 采购下一代 High-NA EUV曝光机

3 (37%)
已有 条意见

    最新资讯

    加载中...

    今日最热

    加载中...

    热门评论

      Top 10

      招聘


      Advertisment ad adsense googles cpro.baidu.com
      created by ceallan