投资者会议的QA环节中 英特尔高层表达了10nm和7nm工艺的信心

2018年12月08日 14:44 次阅读 稿源:cnBeta.COM 条评论

在第39届纳斯达克投资者会议的QA环节,首席工程官、技术、系统架构和客户集团总裁Murthy Renduchintala也就公司在10nm制程的未来计划表达了信心,Renduchintala称公司在2014年设定的晶体管密度和性能目标仍然一样,也就是说公司首个10nm芯片产品将达到14nm制程芯片的2.7倍密度,这优于三星和台积电的7nm工艺。

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在未来7nm制程的计划方面,Renduchintala透露公司也已经有一个不同的团队在稳步进行,尽管落后对手,当公司有信心提供更具先进和能效的芯片,尽管尚未透露计划表,他透露7nm制程将是英特尔首个部署EUV光刻工艺的制程。

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